プラズマ装置/プラズマ表面処理
低圧プラズマ処理装置
低圧プラズマ処理装置
FEMTO ベーシックPC
PICO セミオート
NANO フルPC
特長
- 電子基板、ガラス基板、金属基板、プラスチック素材、粉体材料など、様々な材料のプラズマ処理が可能です。
- 親水性改善、撥水膜の成膜、ドライクリーニング、アッシング、パウダートリートメント等の様々なプロセスに対応可能です。
- 手軽に安定したプラズマを発生させることが可能です。
- 研究開発、試作だけでなく、量産ラインへの導入実績も多数あります。
- 150Lを超える巨大チャンバーの導入実績もあります。
- ご要望に応えて様々な容量のプラズマチャンバーをご提供できます。
対象製品
電子デバイス、電子基板、繊維、プラスチック、粉体（パウダー）
用途
親水化、撥水性膜の成膜、ドライクリーニング、アッシング、パウダートリートメント
工程
実験、量産試作、量産製造
仕様
| FEMTO | PICO | NANO | ||||
| 装置寸法 | 幅345 奥行420 高さ210 | 幅560 奥行500 高さ330 | 幅560 奥行600 高さ600 | |||
| チャンバー形状 | 円筒形 | 直方体 | 円筒形 | 直方体 | 円筒形 | 直方体 |
| チャンバー材質 | ステンレス/ガラス /クォーツ |
ステンレス/ガラス /クォーツ |
ステンレス/ガラス /クォーツ |
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| チャンバー寸法 （mm） |
100φ×278 | 100×100 ×278 |
150φ×320 | 150×150 ×320 |
267φ×420 | 267×267 ×420 |
| チャンバー容積 | 約2リットル | 約5リットル | 約24リットル | |||
| プラズマ周波数 | 40KHz / 13.56MHz /2.45GHz |
100KHz / 13.56MHz / 2.45GHz |
100KHz / 13.56MHz / 2.45GHz |
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| 制御方法 | セミオート/ベーシックPC /フルPC |
セミオート/ベーシックPC /フルPC |
セミオート/ベーシックPC /フルPC |
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動画
Pico
Nano
Tetra 2800Lチャンバー
実験用低圧プラズマ装置
ATTO
ZEPTO
特長
- 電子基板、ガラス基板、金属基板、プラスチック素材、粉体材料など、様々な材料のプラズマ処理が可能です。
- アプリケーションとして、親水化向上、ドライクリーニング等に対応可能です。
- 手軽にプラズマを発生させることが可能で、研究開発、試作だけでなく大学の実験装置としても導入実績があります。
対象製品
電子デバイス、電子基板、金属部品、ガラス部品、プラスチック部品、繊維
工程
研究開発、実験
仕様
| ATTO | ZEPTO | |
| 装置寸法 | 幅425 奥行450 高さ275 | 幅425 奥行450 高さ185 |
| チャンバー形状 | 円筒形 | 円筒形 |
| チャンバー材質 | ガラス | ガラス/クォーツ |
| チャンバー寸法 （mm） |
211φ×300 | 105φ×300 |
| チャンバー容積 | 約10.5リットル | 約26リットル |
| プラズマ周波数 | 40KHz | 40KHz |
| 制御方法 | セミオート | セミオート |
動画
ZEPTO動画
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プラズマ装置/プラズマ表面処理関連
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