プロセス合成パラレルモニタリング装置 構成・仕様のご案内

構成

全体概略

装置本体は、下記図の左手前からイナートガスを注入する①イナートガスパージユニット、溶媒送液を行なう②シリンジポンプ、 反応開始溶媒やクエンチ液を保管する③ソースラック、サンプルの吸引・吐出を行なう④ニードル、サンプルバイアルや系列希釈用のウェルプレートをのせる⑤サンプルラック、サンプルに温度を掛けて反応を行なう⑥リアクションブロックで構成されています。

プロセス合成パラレルモニタリング装置　外観図

構成パーツ

装置本体の各構成パーツをそれぞれ紹介します。

Source Rack	Sample Rack	Inert Gas Purge
【反応溶媒保管ラック】 最大10本のVesselを保管可能 ラック後部には250mlの溶媒ビンをセット可能	【サンプルラック】 系列希釈用のマイクロプレートを設置 適合：島津・Agilent・Waters社、他	【不活性ガス注入ユニット】 Vessel 内を窒素ガスでパージする事でイナート仕様で使用可能

Needle	Syringe	Silicon Cap
【ニードル】 最小吸引量：50ul 内径：約1.5mm	【シリンジ】 シリンジ容量：2.5ml	【Vessel用シリコンキャップ】 日々使用する消耗品

反応容器

Classic Vessel	Low Volume Vessel	Novel Dean & Stark Vessel	Diagonal Baffles Vessel
容量：4～20ml 外径：25mm 高さ：150mm 標準容器	容量：250ul～4ml サンプルが稀少、高価な場合に推奨	サンプルを加熱還流し上部に最大1mlまで蒸発した水分をトラップ可能	容器側面にらせん状のミゾがあり、攪拌時に攪拌効率が良い反応容器

ソフトウェア

• サンプリング出来る最大数をソフトが自動計算 サンプリング出来る最大数をソフトが自動計算して表示します。定時的なサンプリングが可能です。
• サンプリングタイミングを自動制御 反応開始時間をずらし、サンプリングを行なうタイミングがかぶらないよう自動制御を行います。

メイン画面（Status）

プロトコル設定後、下記画面に切り替わり各反応をスタートさせます。 進行中のタスクが画面左上の枠内で緑色に表記される。画面中央では温度と撹拌の実測値と設定値が表示され、マニュアル変更可能です。

※温度データ（CSV形式）、動作ログ（txt形式）で出力可能

サンプリングスケジュール

採取したサンプルのバイアル位置、現在の状態、採取元を示すリストをリアルタイムに生成します。（※CSV形式）
また、時計とリンクしリアルタイムで時間が表示されるので、終了時間が一目で分かり実験のスケジュールが立てやすくなっています。

2種類のモード　Expressモード/Expertモード

Amigoのソフトウェアは2種類のモードで構成されています。簡単な入力項目だけで使用できるExpressモード、自由にタスクを組み合わせて複雑な動作も可能なExpertモードです。
特長的な機能は、下記をご覧ください。

簡単設定可能【Expressモード】

メインメニューからExpressとExpertモードを選択可能で、Expressモードは簡単な設定で動作可能です。

Protocol
サンプリングプロトコルの特長的な機能を紹介します。

1. Reaction Time 反応時間に応じサンプリングできる最大数を自動計算し表示します。
2. Synchro Start この機能を使用すると反応開始時間をずらし、サンプリングを行なうタイミングがかぶらないよう自動制御を行います。（サンプリングを行なう反応時間自体は同じ。）

自由にタスクを組み合わせて複雑な動作も可能【Expertモード】

Expertモードでは・個別の動作をブロックのように簡単に組合せ、1つのプロトコルとして設定可能で、簡易モードではできない複雑な動作が設定可能です。

オプションユニット

高性能リアクションブロックIntegrity10の紹介をいたします。
温度制御範囲は-30～150℃、撹拌速度として350～1200rpmで制御でき、隣接する反応容器に影響されることなく温度制御が可能です。金属ユニットを使用し、温度を掛けながら反応容器を常に窒素ガスで満たすことが可能です。攪拌時にはマグネットスターラーを使用します。

内部温度測定ユニット

AC-Int-10-MT：ソフトウェア
Int10_MTM_S10：内温測定モジュール

各RVからセンサ温度を読み取りプロットされます。
読み取った内部温度値を元に温度制御の選択ができます。内部温度での制御を行うことで実際の反応内容物、サンプルの温度値は設定温度値に近く、より精度を求めたプロセス合成を行うことが可能です。

Amigo仕様

装置仕様

電源	【装置本体】単相100V　合計4口　（20A）
	【チラー】単相230V　1口　（15.5A）
電力	負荷合計容量：1.5KW/1.5KVA 定格電流値：15A
給排水	不要
ガス	N2　必要流量（＜0.5bar）　フィッティング（6mm外径チューブ） ※イナート仕様でご使用の場合接続
機器発熱	無し
排気	不要
フロン	無し
ネットワーク接続	LAN接続不要
PC	Windows7以上 MS-Officeは不要
設定可能温度	-30℃～150℃ ※使用していないリアクションベッセルをサンプル保管用として使用可能（低温保存）
ニードル	最小吸引量50ul/内径約1.5mm
シリンジ	2500ul/5000ul（2種類）
温度制御	最小0.1℃/min～最大5.0℃/min
使用ベッセル	【Classic Vessel】容量：4～20ml
	【Low Volume Vessel】容量：250ul～4ml
	【Novel Dean &Stark Vessel】脱水縮合反応用ベッセル
	【Diagonal Baffles】撹拌効率が良いベッセル
装置サイズ	【装置本体】W：1300mm　D：650mm　H：900mm 重量：90kg
	【チラー】W：410mm　D：480mm　H：764mm 重量：67kg

Integrity10仕様

ポジション数	10本
セル直径	25.5mm
容器充填レベル	250ul～25ml
温度範囲	-30～150℃
最高温度オーバーシュート	＜0.5℃
最小制御温度上昇率	0.1℃/min
最大制御温度上昇率	5.0℃/min
撹拌速度	350～1200rpm
粘度容量	グリセリン（25℃）
推奨スターラー	12x4.5mm（円筒形）、10x6mm（オーバル）

その他

• プロセス合成パラレルモニタリング装置概要
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