真空プロセス専用温度測定システム
各種真空薄膜形成(成膜)プロセス専用システム

フルーク・プロセス・インスツルメンツ社

Fluke Process Instruments社製Datapaq真空プロセス専用温度測定システム

高真空下での成膜等の真空プロセスに特化して設計された耐熱ケースです。通常のプロセス向けの耐熱ケースと比較し大幅な小型化を実現致しました。また、有機系断熱材を使用していないため耐熱ケースからのアウトガスはほぼ皆無です。到達真空度や所要時間への影響もほぼ無く、炉や製品のコンタミネーションの心配もありません。最新モデルのDP5シリーズロガーではBluetoothによるリアルタイム測定に対応します。(Bluetooth通信を使用しておりますため、使用条件によりご使用頂けない可能性がございます。)

アプリケーション

主に下記の用途に採用実績がございます。

  • 太陽電池や光学レンズのARコーティング(反射防止膜の成膜)
  • ディスプレイパネルの各種成膜・蒸着プロセス
  • 医療用画像診断装置部品の成膜プロセス
  • フィルム材料の各種成膜プロセス

※真空リフロープロセスにおいて本製品はご使用頂けません。リフロー向けシステムをご検討ください。
リフロー用耐熱ケースの仕様はこちら

耐熱ケース

真空プロセス専用設計とすることで既存の耐熱ケース比最大約80%(体積比)の小型化に成功しました。代表的な耐熱ケースの仕様につきましては下記表をご覧ください。

耐熱ケース
型番 寸法(mm)
H×W×L
耐熱性能(分) 対応ロガー
VB7400 18×146×146 450℃ 20分
300℃ 40分
200℃ 75分
100℃ 300分以上
DP5683(現行モデル)
DQ1863(旧モデル)

6チャンネル測定
VB1200 20×142×210 450℃ 26分
300℃ 50分
200℃ 100分
100℃ 400分以上
DP5660、DP5600(現行モデル)
DQ1860、DQ1800(旧モデル)

6チャンネル測定
VB2030 35×150×240 300℃ 120-180分 DP5660、DP5600(現行モデル)
DQ1860、DQ1800(旧モデル)

6チャンネル測定
VB2040 35×105×386 600℃ 50分
400℃ 100分
300℃ 400分以上
DP5640(現行モデル)
DQ1840(旧モデル)

4チャンネル測定
  • 重要:実際の使用可能時間は、使用環境(真空度、温度等)で前後します。御社のプロセスについてヒヤリングさせて頂いた上で最適な製品を推奨させて頂きます。
  • 上記耐熱ケースをベースにしたカスタム品にも対応致します。詳しくはお問合せください。

データロガー仕様

最新のDP5シリーズは汎用USBケーブルを採用、ユーザーにて充電池交換が可能となるなど、使い勝手が大幅に向上しました。

データロガーDQ1860
測定点数 DP5660, DP5600, DP5683:6チャンネル
DP5640:4チャンネル
測定誤差 ±0.5℃(サンプリング周期0.5秒以上の場合)
分解能 0.1℃
サンプリング周期 0.05秒~10分
メモリ点数 50,000ポイント(チャンネル毎)
測定開始トリガ スタートボタン、時間、温度(上昇・下降)
バッテリ NiMH充電式(ユーザー交換可能)
熱電対 Kタイプ(汎用ミニチュアプラグ)

その他

温度データロガーシステム関連ページ

お問い合わせ

製品やサービスについてのご質問・ご要望等ございましたら、下記のフォームにてお気軽にお問い合わせください。